平面拋光機(jī)的首要意圖是改善拋光速率，因此能夠削減磨削進(jìn)程中發(fā)生的損害層。假如速率非常高，也會(huì)使拋光損害層不會(huì)造成錯(cuò)誤的安排，不會(huì)影響觀察到的資料安排。假如是運(yùn)用粗磨，能夠起到去除磨削損害層的影響，也有負(fù)面影響，將深化拋光層時(shí)的損害。

　　超精細(xì)雙面拋光加工技術(shù)設(shè)備，包含雙面拋光機(jī)拋光結(jié)束后點(diǎn)檢測和進(jìn)程控制設(shè)備、清洗設(shè)備、廢物處理和測驗(yàn)設(shè)備等，消耗品包含拋光墊拋光液。超精細(xì)雙面拋光進(jìn)程首要包含拋光，清洗后和丈量測驗(yàn)等幾個(gè)部分。

　　因此，超精細(xì)拋光體系包含許多變量：芯片本身變量、拋光液、拋光墊拋光機(jī)流程變量，等等，超精細(xì)雙面拋光進(jìn)程的三個(gè)關(guān)鍵參數(shù)是拋光機(jī)，拋光墊拋光液，相互匹配和各自的屬性對工件表面質(zhì)量的影響。

　　假如要運(yùn)用更多的細(xì)磨時(shí)能夠大大削減拋光損害層，但拋光的速度。解決問題的首要辦法是在拋光階段，能夠粗略的拋光，第一次穿了損害層，然后進(jìn)行打磨拋光，用來鏟除拋光層受損。所以不要嚴(yán)重的加快了速度，但也是削減損害的影響。平面拋光機(jī)運(yùn)用辦法比較簡單，拋光進(jìn)程自動(dòng)化。